• <sup id="hwd5l"><form id="hwd5l"></form></sup>
  • <menuitem id="hwd5l"></menuitem>
    <menuitem id="hwd5l"><dl id="hwd5l"></dl></menuitem>
  • <fieldset id="hwd5l"><form id="hwd5l"><center id="hwd5l"></center></form></fieldset>
    <sup id="hwd5l"><form id="hwd5l"></form></sup>
    當(dāng)前位置: 走進(jìn)騰盛?>?新聞動(dòng)態(tài) > 芯片堆疊技術(shù)能否實(shí)實(shí)在在解決國(guó)產(chǎn)芯片難題? < 返回列表

    芯片堆疊技術(shù)能否實(shí)實(shí)在在解決國(guó)產(chǎn)芯片難題?

    發(fā)布時(shí)間:2022-12-26 08:35:30 瀏覽:219次 責(zé)任編輯:騰盛精密

     

    圖片


    前言

    芯片堆疊技術(shù)作為一個(gè)新的概念,其在近幾年成為半導(dǎo)體領(lǐng)域研究熱點(diǎn),但這一技術(shù)是否能夠?yàn)閲?guó)產(chǎn)芯片發(fā)展帶來(lái)實(shí)質(zhì)性的改變呢?


    華為芯片堆疊技術(shù)之路


    眾所周知,CPU是一個(gè)超大規(guī)模的集成電路板,指甲蓋兒大小的芯片上安置著數(shù)以億計(jì)的晶體管,再也留不出任何空白的地方,那為何不再疊加一張紙放在它的上面呢?3D堆疊由此產(chǎn)生。


    所謂的3D堆疊技術(shù)其實(shí)很好理解,就是在原本的封裝體里面,封裝進(jìn)兩個(gè)以上不同功能的芯片,一般都是在不改變?cè)镜姆庋b體積大小,而在垂直方向進(jìn)行的芯片疊放。


    這種技術(shù)所帶來(lái)的特點(diǎn)就是改變了原有的在單位面積上不斷增加晶體管的方式,而是在垂直方向上進(jìn)行芯片疊放,自然也會(huì)實(shí)現(xiàn)芯片的功能多樣化。


    早在2012年,華為便已經(jīng)對(duì)芯片堆疊技術(shù)進(jìn)行專利公開,該專利為“芯片堆疊封裝結(jié)構(gòu)”(申請(qǐng)公布號(hào):CN102693968A),主要設(shè)計(jì)芯片封裝技術(shù)領(lǐng)域,實(shí)現(xiàn)芯片的高密度堆疊,提高芯片堆疊封裝結(jié)構(gòu)的散熱效率。


    其后幾年,華為也在不斷對(duì)外公開其芯片堆疊的相關(guān)技術(shù),足以證明長(zhǎng)期以來(lái)華為都在這項(xiàng)技術(shù)上深耕研發(fā)。


    比如近幾年,華為所公布的兩項(xiàng)芯片堆疊相關(guān)專利,一項(xiàng)是“一種多芯片堆疊封裝及制作方法”(申請(qǐng)公布號(hào):CN114287057A),解決因采用硅通孔技術(shù)而導(dǎo)致的成本高的問(wèn)題。

    另一項(xiàng)為“芯片堆疊封裝結(jié)構(gòu)及其封裝方法、電子設(shè)備”(申請(qǐng)公布號(hào):CN114450786A),用于解決如何將多個(gè)副芯片堆疊單元可靠的鍵合在同一主芯片堆疊單元上的問(wèn)題。

     

    圖片

    ▲華為專利 (來(lái)源:國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)官網(wǎng))

    其實(shí)說(shuō)到底,堆疊芯片就是利用先進(jìn)的封裝技術(shù)去繞開EUV的“緊固”,放出高性能的芯片。多項(xiàng)與芯片堆疊相關(guān)專利的公開,或許也揭露了華為未來(lái)在芯片技術(shù)上的一個(gè)發(fā)展方向。

    目前,3D芯片技術(shù)的類別包括:基于芯片堆疊的3D技術(shù),基于有源TSV的3D技術(shù),基于無(wú)源TSV的3D技術(shù),以及基于芯片制造的3D技術(shù)。


    3D堆疊應(yīng)用商業(yè)化普及


    蘋果此前已經(jīng)向我們證明,芯片堆疊技術(shù)是可以大幅提升處理器的性能的。前不久發(fā)布的M1 Ultra芯片,就是通過(guò)兩塊M1 Max芯片封裝而來(lái)的。


    M1 Ultra將兩枚M1 Max中隱藏的芯片間互連模塊(die-to-die connector)通過(guò)技術(shù)手段整合在一起,蘋果將其稱之為“Ultra Fusion”架構(gòu),擁有1萬(wàn)多個(gè)信號(hào)點(diǎn),互連帶寬高達(dá)2.5TB/s,而且延遲、功耗都非常低。


    這種堆疊方式可在性能、能耗和功能上帶來(lái)各種意想不到的好處。


    沒(méi)有這種技術(shù),蘋果智能手表Apple Watch也就無(wú)法做出來(lái),三星最先進(jìn)的固態(tài)存儲(chǔ)器、來(lái)自英偉達(dá)和谷歌的人工智能系統(tǒng)和索尼超級(jí)快速的新型相機(jī)也不例外。


    圖片

    Apple Watch(來(lái)源:網(wǎng)絡(luò))


    芯片堆疊也帶來(lái)了一些全新的功能。有的手機(jī)攝像頭將圖像傳感器直接疊加在處理圖像的芯片上面。額外的速度意味著,它們能夠?qū)φ掌M(jìn)行多次曝光,并將其融合在一起,在昏暗的場(chǎng)景里捕捉到更多的光線。


    3D堆疊式芯片的普及非??焖伲鼈円脖厝粫?huì)成為行業(yè)主流。10年前,該技術(shù)幾乎僅僅存在于高校實(shí)驗(yàn)室;五六年前,還難以找到它的商業(yè)化案例。但它如今如雨后春筍般涌現(xiàn),出現(xiàn)在各類的應(yīng)用上,如網(wǎng)絡(luò)化、高性能計(jì)算和Apple Watch等高端可穿戴設(shè)備。


    芯片堆疊關(guān)鍵工藝及局限性


    華為“雙芯疊加”專利與蘋果的“Ultra Fusion”架構(gòu)還是有所不同。華為采用的上下堆疊的方式,而蘋果采用平行布置的方式。而且蘋果的M1 Ultra芯片是用在Mac電腦上的。這就說(shuō)明,芯片堆疊需要更多的封裝空間,以及面臨功耗增大、散熱需求增大的問(wèn)題。

    兩個(gè)封裝都是由多個(gè)芯片堆疊而成,目的是為了減少多芯片封裝占用的空間,從而實(shí)現(xiàn)存儲(chǔ)器件尺寸的最小化。其中較關(guān)鍵的工藝是芯片減薄、切割,以及芯片貼合。
    研磨后切割
    (Dicing After Grinding,DAG)
    主要針對(duì)較厚的芯片(厚度需求>60um),屬于較傳統(tǒng)的封裝工藝,成熟穩(wěn)定。晶圓在貼上保護(hù)膜后進(jìn)行減薄作業(yè),再使用刀片切割將芯片分開。適用于大多數(shù)的封裝。

    圖片

    ▲DAG(來(lái)源:DISCO
    研磨前切割
     (Dicing Before Grinding,DBG)
    主要針對(duì)38-85um芯片厚度,且芯片電路層厚度>7um,針對(duì)較薄芯片的需求和存儲(chǔ)芯片日益增長(zhǎng)的電路層數(shù)(目前普遍的3D NAND層數(shù)在112層以上)。使用刀片先將芯片半切,再進(jìn)行減薄,激光將芯片載膜 (Die attach film)切透。適用于大部分NAND 芯片,優(yōu)勢(shì)在于可以解決超薄芯片的側(cè)邊崩邊控制以及后工序芯片隱裂(die crack)的問(wèn)題,大大提高了多芯片封裝的可行性和可量產(chǎn)性。

    圖片

     DBG(來(lái)源:DISCO)
    研磨前的隱形切割
    (Stealth Dicing Before Grinding,SDBG)
    主要針對(duì)35-85um芯片厚度,且芯片電路層厚度<7um,主要針對(duì)較薄芯片的需求且電路層較少,如DRAM。使用隱形激光先將芯片中間分開,再進(jìn)行減薄,最后將wafer崩開。適用于大部分DRAM wafer以及電路層較少的芯片,與DBG相比,由于沒(méi)有刀片切割機(jī)械影響,側(cè)邊崩邊控制更佳。芯片厚度可以進(jìn)一步降低。

     

    圖片 

    SDBG(來(lái)源:DISCO)

    從市場(chǎng)需求來(lái)看,倒裝封裝和硅通孔,以及晶圓級(jí)(wafer level)的封裝形式可以有效地減小器件尺寸的同時(shí),提高數(shù)據(jù)傳輸速度,降低信號(hào)干擾可能性。


    芯片堆疊技術(shù)推動(dòng)國(guó)產(chǎn)芯片量產(chǎn)


    在諸多限制和封鎖下,我國(guó)一直缺乏半導(dǎo)體關(guān)鍵設(shè)備EUV光刻機(jī),這就導(dǎo)致中國(guó)在推進(jìn)7nm工藝乃至更先進(jìn)的工藝方面始終無(wú)法突破,但是中國(guó)芯片行業(yè)采取了兩條路線齊步走的方式發(fā)展芯片。

    其中一條路線就是積極推進(jìn)國(guó)產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈的完善和技術(shù)升級(jí);另一條路線則是研發(fā)先進(jìn)的封裝技術(shù),例如華為芯片堆疊技術(shù)將兩枚同樣以14nm工藝生產(chǎn)的芯片堆疊在一起,從而取得接近7nm工藝的性能。

    ▲Kirin芯片(來(lái)源:網(wǎng)絡(luò))

    堆疊技術(shù)并非新技術(shù),華為此項(xiàng)專利只是其中一個(gè)堆疊方法的專利展示。至少為國(guó)內(nèi)被芯片“卡脖子”提出了解決方案之一,在此研發(fā)過(guò)程所沉淀和積累下來(lái)的研發(fā)能力、研發(fā)隊(duì)伍、研發(fā)平臺(tái)也是有價(jià)值的。


    Tensun騰盛作為在半導(dǎo)體封測(cè)領(lǐng)域有著十六年經(jīng)驗(yàn)的精密裝備供應(yīng)商,也一直不斷探索SiP先進(jìn)封裝領(lǐng)域產(chǎn)品設(shè)備的開發(fā)和制程應(yīng)用,致力于為客戶提出半導(dǎo)體制程封測(cè)的解決方案。


    只要有市場(chǎng),中國(guó)芯片就能引領(lǐng)世界,芯片堆疊技術(shù)能最大化發(fā)揮目前的國(guó)產(chǎn)芯片資源優(yōu)勢(shì)。5G技術(shù)融入到各行各業(yè),幫助傳統(tǒng)企業(yè)快速轉(zhuǎn)型升級(jí),利用我們自身的優(yōu)勢(shì)去提高行業(yè)發(fā)展。



    ————

    聲明:本文部分內(nèi)容參考出處有:

    1.「華為公布芯片新專利,堆疊封裝的利與弊各是什么?」,來(lái)源:物聯(lián)網(wǎng)智庫(kù)

    2.「華為首次公開芯片堆疊封裝技術(shù)!」,來(lái)源:云腦智庫(kù) 

    3.一文解析多芯片堆疊封裝技術(shù)」,來(lái)源:電子發(fā)燒友

    如有侵權(quán)等行為,可聯(lián)系我方刪除。


    圖片
    Tensun騰盛精密創(chuàng)立于2006年7月,一直專注于
    精密點(diǎn)膠與精密切割(劃片)兩大產(chǎn)品線,
    深耕于3C手機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈、新型顯示及半導(dǎo)體封測(cè)三大行業(yè)。
    Tensun騰盛自成立之初便十分注重核心技術(shù)的研發(fā)投入,
    目前已經(jīng)掌握了精密點(diǎn)膠及精密切割(劃片)的核心技術(shù),
    成為具備核心模塊設(shè)計(jì)、整機(jī)及自動(dòng)化系統(tǒng)集成能力的
    高科技型精密裝備企業(yè)。

    圖片
    圖片